● Použil jsem termín O2 = kyslík, protože jsem jej považoval za podstatnou podmínku hoření směsí, kdy má shořet všechno (co nejvíce paliv) do válců spalovacího motoru vpravené.
● Obrácený přístup zvyšování výkonu motorů je přebytek paliva, tak aby se využil veškerý dodaný kyslík ve vzduchu.
● Jiné cesty zvedání výkonu (zejména leteckých motorů WWII, systémy "GM-1") bylo vstřikování vody nebo N2O rajský plyn - oxid dusný. N2O. Krátkodobě aby motor zvýšené namáhání vydržel.
● Moc benzínu = nemůže všechen shořet - nemá kyslík. Pokud je moc kyslíku - nemá s čím hořet. Proto je snaha dopravit do válce maximum směsi, co může shořet. N2O Booster Jedna z výhod N2O = má 36% hmotnostní podíl kyslíku přičemž vzduch jen 23%.
● Závěr pro mne: Na čištění výfuků z ocelového materiálu jde (za vhodných podmínek) použít. U hliníkových je nutno zůstat u ohřáté Lavio ANTIFREEZE G12 EVO, koncentrát.
KROK 1. (KROK 2. = Použití LHC Cern

)_______ Konspirační postup dle patentu
Vynález se týká způsobu odstraňování uhlíkových vrstev, zejména ta-C (tetrahedral amorphous carbon) vrstev čtyřstěnného amorfního uhlíku, z povrchů substrátů nástrojů a součástí. Substrát, kterého vrstva se má odstranit, je tedy uspořádán na nosiči substrátu ve vakuové komoře, vakuová komora je naplněna alespoň jedním reaktivním plynem, který napomáhá odvádění uhlíku v plynné formě a ve vakuu se vytváří nízkonapěťový plazmový výboj. komory pro aktivaci reaktivního plynu a tím napomáhání požadované chemické reakci nebo reakcím k odstranění povlaku z potaženého substrátu. Nízkonapěťový plazmový výboj je stejnosměrný nízkonapěťový obloukový výboj, povrchy substrátu, které mají být odkryty,
jsou bombardovány v podstatě výhradně elektrony a jako reaktivní plyn se používá kyslík, dusík a vodík.
Kód: Vybrat vše
EP2718481A1 European Patent Office https://patents.google.com/patent/EP2718481A1/en
— Odstraňování a nanášení karbonových vrstev
Kromě toho (patent) EP2180499 uvádí příklady, ve kterých byly DLC a diamantové filmy odstraněny na teplotně
citlivých materiálech, při teplotách 100-250 °C. Jako reaktivní plyn byl použit kyslík. Vrstvy DLC obsahující vodík byly stripovány například pomocí jak bipolárního excitovaného plazmatu, tak unipolárního excitovaného plazmatu (pulzní stejnosměrné plazmové výboje) při výbojovém napětí 500-900 V a excitačních frekvencích 30-40 kHz. Doba stripování byla závislá na tloušťce vrstvy a pulzní modulaci. Diamantové filmy byly stripovány např. pomocí unipolárního excitovaného plazmatu při výbojovém napětí 800 V a excitační frekvenci 40 kHz. Doba stripování byla mezi 14 a 20 hodinami. Kromě toho bylo v EP 2180499 zdůrazněno, že odizolované substráty lze bezprostředně poté dále čistit při konstantním pracovním tlaku vodíkovým plazmatem (např. také vodík-argonovým plazmatem), aby se odstranilo zabarvení substrátů po stripovací úpravě.
_____ Za zmínku stojí i „spešl“ reverzní postup, kdy vrstva nevzniká reakcí v povrchu materiálu (nebo nespálenými úsadami) u daného dílu, ale nanášením ve vakuové komoře. „Physical Vapour Deposition“, což není totéž co povlak DLC. (Diamond Like Carbon, also called amorphous carbon (a-C))